フェライトセラミック基板用ベル型焼結水素雰囲気焼鈍炉

フェライト基板の脱バインダーと焼結用Tailordラウンドベル炉

（最大1750℃、空気雰囲気）

優れた磁気特性と幾何学的完全性のための精密高温焼結

高周波用途向け高性能フェライト基板の製造には、寸法安定性を損なうことなく、精密な微細構造制御を実現する優れた熱処理プロセスが求められます。Tailordのラウンドベル炉は、空気雰囲気下で1750℃に達することができ、この重要なタスクのために巧みに設計されています。バインダーの焼失と超高温焼結を、独自の円形均一ホットゾーン内でシームレスに統合し、次世代のRF、電力変換、EMI抑制コンポーネントに不可欠な、平坦で高密度で磁気的に一貫したフェライト基板の製造を保証します。

主な特徴とプロセスの利点：

1. 高度なフェライトのための超高温能力： 最大温度1750℃ の達成は、高密度、高透磁率のフェライト組成物（例：Ni-Zn、Mg-Zn）の焼結に不可欠です。この極度の熱は、最適な結晶粒成長とカチオン配列を保証し、それが直接、優れた初期透磁率（μi）、高い品質係数（Q）、および小型化、高効率の磁気デバイスに必要な正確な飽和磁束密度（Bs）につながります。

2. 完璧な平坦性（±3℃）のための比類のない放射状温度均一性： ラウンドベル炉の対称設計は、完全に均一な放射状熱環境を作り出します。これは、焼結中の薄い板状フェライト基板の反り、反り、および差収縮を防ぐために不可欠であり、優れた幾何学的完全性とバッチ全体での一貫した磁気性能を保証します。

3. 単一の密閉サイクルでの統合された脱バインダーと焼結： このプロセスは、低温ポリマー除去から最終的な高温緻密化浸漬まで、1つの連続した保護サイクル内で完全な熱プロファイルを実行します。これにより、脆弱で多孔質の「ブラウン」フェライト基板の中間的な取り扱いが不要になり、マイクロクラック、汚染、および破損のリスクを大幅に削減し、生産歩留まりを最大化します。

4. 化学量論的制御のための最適化された空気雰囲気： 制御された空気雰囲気は、ほとんどの市販のフェライト組成物の焼結に最適です。有機バインダーの完全な酸化除去を保証し、重要なことに、設計された磁気特性と長期安定性を達成するために不可欠な、スピネル結晶構造内の正確な酸素化学量論を維持します。

5. 円形マルチベース効率による高スループット： このシステムは、複数の円形ベースを利用しています。これにより、1つのバッチがベルの下で焼結されている間に、他のベースはローディング、アンローディング、または制御された冷却段階にあります。この分離されたワークフローは、生産性を劇的に向上させます 標準サイズのフェライトウェーハと基板のバッチ生産に最適です。

Tailordと提携する理由

• 磁気性能の卓越性： 優れたバッチ間の一貫性で、目標磁気特性（μi、Q、Bs）を達成します。

• 幾何学的完全性： GHz周波数帯域のアプリケーションにおける自動組み立てと一貫した回路性能に不可欠な、完全に平坦な基板を製造します。

• 実績のある生産効率： ラウンドベル、マルチベースシステムは、超高温プロセス品質と大量生産スループットの最適なバランスを提供します。

以下に最適： 高周波トランス、インダクタ、EMIサプレッサー、およびマイクロ波コンポーネント用のNi-Zn、Mg-Zn、およびその他の特殊フェライト基板およびウェーハの脱バインダーと焼結。

Tailordを選択して、高周波電子機器の未来を切り開いてください。当社のラウンドベル炉技術は、磁気性能の最先端を定義するフェライト基板の製造に不可欠な、制御された、均一で超高温の環境を提供します。